Чипы из алмазов станут следующим поколением решений для датчиков и силовых элементов, которые не боятся перегрева. Но для массового внедрения необходим малозатратный и эффективный техпроцесс получения алмазных пленок и подложек.

Похоже, ученые из Южной Кореи нашли решение. Сообщается, что они научились синтезировать искусственные алмазы при обычном атмосферном давлении и на достаточно простом оборудовании, причем за считанные минуты.

Впервые искусственные алмазы почти 50 лет назад вырастили в лаборатории компании General Electric. Для этого потребовалось имитировать условия в мантии Земли, где алмазы образуются естественным образом. Ученые поместили в искусственную среду с давлением 10 000 атмосфер и температурой 1 400 градусов Цельсия сульфид железа, который в таких условиях в присутствии углерода синтезировал алмаз из затравки. Также синтетические алмазы можно изготавливать методом химического осаждения из паровой фазы. Тоже в присутствии затравки и с использованием сложного оборудования.

Ученые из Ульсанского национального института науки и технологий (UNIST) предложили нечто совершенно иное и простое. Еще раньше один из авторов новой работы заметил, что атомы углерода можно связывать в присутствии жидкого галлия. Его температура плавления составляет всего лишь 29,76 градуса Цельсия. В среде газообразного метана в присутствии галлия углерод превращался в графен. Следовательно, данный метод можно было попытаться использовать для синтеза алмазов.

К открытию привела случайность: капля жидкого галлия попала на кремниевую пластинку и растворила его. В этом месте ученые обнаружили вкрапления крошечных алмазов. Дальнейший поиск привел к разработке процесса, в котором смесь жидкого галлия, кремния, железа и никеля нагревалась в небольшом тигле до температуры 1 025 градусов Цельсия и подвергалась воздействию газов - метана и водорода. В небольшой по объему рабочей камере алмазы возникали уже через 15 минут без необходимости в затравке.

Ученые уверены, что благодаря их открытию можно будет запустить синтез алмазных подложек и пленок для нужд полупроводниковой промышленности и не только.

Источник: 3dnews.ru